本学は集積回路（LSI）を設計からプロセス、評価、実装まで一気通貫で行える、大学としては稀有な設備群・技術を整備しています。自らの手でLSIを製作できるこの環境を活用して、学外の高専生から社会人まで技術レベルに応じた様々な教育プログラム「Toyohashi Semicon. Camp.」を展開しています。多様な人々がIRES²に集い、共に学び、教え合える環境において、理論と実践を深化させた人材育成を展開しています。
最先端半導体技術が高度化・細分化し、企業においてもプロセス技術（前工程）全体を経験、理解している人材が激減しています。今後、新しいデバイス構造や材料適用を考える際、この半導体製造工程全体を把握し俯瞰できる技術力はジャンプアップに向けた大きな要素になるはずです。本学では「俯瞰型技術力」を重視、それを体得するために講師陣との密な高度実践教育を行います。
人材育成（講習会）
集積回路技術講習会
5日間でnMOS集積回路の製作と集積回路設計の基礎を学ぶコースで半導体技術の全体像を理解
「俯瞰型高度半導体人材」共創育成ワークショップ（CMOSフルプロセスコース）
9日間で半導体集積回路の基本構成である「プレーナCMOS」プロセスによるイメージセンサを製造する実習コースでCMOSプロセスの各工程（平面構造と断面構造関係等）を理解し、全工程の流れ及び物理化学的な相互関係理解まで習得
高専生向け集積回路製造実習（集積Green-niX研究・人材育成拠点）
- ベーシックコース（5日間）：nMOS集積回路製作と設計、シミュレーション技術を学ぶ
- アドバンスコース（4日間）：与えられた条件を満たす集積回路の製造プロセスの構築と製作を行う
高度実践実習「集積回路フルプロセス」コース（東海地域半導体実践人材育成拠点）
本コースは、講習生一人一人がウエハを持ち、自らプロセス、実装、評価を行うことで、集積回路フルプロセスを理解するとともに、さらに各工程における平面構造と断面構造関係や物理化学的な相互関係の理解まで習得することを目指します。
半導体プロセス技術の基礎講習とプロセス実演
半導体プロセス技術に関する基礎講習と実習・実演を要望に応じて行う、半日間のコース
